真空镀膜设备批发-镀膜设备-拉奇纳米(查看)

化学气相沉积的特点

化学气相沉积工艺是，将加热的模具暴露在发生反应的混合气氛真空度≤1pa中，汽车镀膜设备，使气体与模具表面发生反应，在模具表面上生成一层薄的固相沉积物，如金属碳化物、氮化物、硼化物等。这里有两个关键因素：

一是作为初始混合气体气相与基体固相界面的作用，镀膜设备，也就是说，各种初始气体之间在界面上的反应来产生沉积，或是通过气相的一个组分与基体表面之间的反应来产生沉积。

二是沉积反应必须在一定的能量条件下进行。一般情况下，产生气相沉积的化学反应必须有足够高的温度作为条件，在有些情况下，可以采用等离子体或激光辅助作为条件，降低沉积反应的温度。

常压化学气相沉积npcvd或---压下化学气相沉积apcvd是在0.01—0.1mpa压力下进行，低压化学气相沉积lpcvd则在10-4 mpa下进行。cvd或辉光放电cvd，是低压cvd的一种形式，其优点是可以在较低的基材温度下获得所希望的膜层性能。

cvd的进一步发展是化学气相浸渍cvi ，或称化学气相注入，在这种工艺中由多孔材料制成的物件被注入某种元素以强化基材性能。

等离子辅助cvdpacvd，也称为等离子活化cvd，等离子援助cvd，等离子增强cvd。