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溅射镀膜

溅射镀膜，是不采用蒸发技术的物理气相沉积方法。施镀时，将工作室---真空，纳米镀膜设备，充入氢气作为工作气体，并保持其压力为0.13-1.33pa，以沉积物质作为靶阴极并加上数百至数千伏的负压，以工件为阳极，两侧灯丝带负压-30-100v。加热灯丝至1700℃左右时，灯丝发射出的电子使氢气发生辉光放电，产生出氢离子h+，汽车纳米镀膜设备，h+被加速轰击靶材，使靶材迸发出原子或分子溅射到工件表面上，形成沉积层。

溅射法可用于沉积各种导电材料，包括高熔点金属及化合物。如果用tic作靶材，便可以在工件上直接沉积tic涂层。当然，也可以用金属ti作靶，再导入反应气体，进行反应性溅射，溅射涂层均匀但沉积速度慢，饰品纳米镀膜设备，不适于沉积105mm以上厚度的涂层。溅射可使基体温度升高到500-600℃，因此，只适用于在此温度下具有二次硬化的钢制模具加工。

等离子体化学气相沉积技术原理是利用低温等离子体非平衡等离子体作能量源，工件置于低气压下辉光放电的阴极上，利用辉光放电或另加---体使工件升温到预定的温度，然后通进适量的反应气体，气体经一系列化学反应和等离子体反应，在工件表面形成固态薄膜。它包括了化学气相沉积的一般技术，又有辉光放电的强化作用。